Contenido creado por Ignacio Palumbo
Tecnología

¡Felicitaciones!

Anuncian la “primera luz” de una nueva máquina de litografía de alta apertura numérica

Es un momento decisivo para la industria de los semiconductores gracias a la innovación de ASML e Intel.

01.03.2024 20:50

Lectura: 2'

2024-03-01T20:50:00-03:00
Compartir en

La empresa holandesa ASML, que fabrica las máquinas más avanzadas del mundo utilizadas para litografía, encendió la primera de sus máquinas de alta apertura numérica (NA, por sus siglas en inglés) para asegurarse de que funcionaba correctamente.

Intel también formó parte del hito, ya que es la primera fundición en el mundo que ha realizado un pedido de una de estas máquinas, y las dos compañías anunciaron conjuntamente un exitoso logro de "primera luz" utilizando alta NA, según consignó el portal ExtremeTech.

El logro de la "primera luz" significa que las fuentes de luz y los espejos de la máquina se han alineado correctamente para enfocarlos en una oblea, o "primera luz en una oblea en resistencia", según ASML.

Es un momento decisivo para la industria de los semiconductores y el comienzo de una nueva era en la fabricación de chips, aseguró el mencionado medio.

ASML anunció que había logrado la "primera luz" utilizando su nueva máquina alta NA esta semana, lo que significa que está funcionando correctamente pero aún no está en pleno funcionamiento. Intel también confirmó la noticia en una conferencia de tecnología, según Reuters.

Actualmente solo hay dos máquinas con alta NA en el mundo: una en Países Bajos (en las instalaciones de ASML) y otra que se está ensamblando en la fábrica de Intel en Oregón, Estados Unidos.

Estas nuevas máquinas, llamadas Twinscan EXE:5000, pueden lograr una resolución de exposición única de 8 nanómetros (nm) en comparación con los 13,5 nm de los sistemas de litografía ultravioleta extrema (EUV) existentes. Esto, a su vez, reduce la cantidad de pases necesarios para fabricar una máscara, aumentando así la producción de obleas y reduciendo las posibilidades de que se produzcan defectos al requerir menos exposiciones. Se espera que estas nuevas máquinas con alto NA se conviertan en el nuevo estándar para la fabricación avanzada de chips en los próximos años, indicó el mencionado medio.

Sin embargo, Samsung y TSMC aún tienen que comprometerse a adoptarlos, ya que requieren reconfigurar las fábricas existentes para acomodar sus fuentes de luz y, según se informa, también cuestan casi US$ 400 millones cada una.